卓上型ランプ加熱装置　MILA-5000シリーズ

小サンプル研究開発に最適
MILA5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特徴である急速加熱・冷却、クリーン過熱が行えます。自在な雰囲気下（真空・ガス雰囲気）で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバーが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。加熱操作をUSBケーブル接続によりパーソナルコンピュータ上で行なえ手軽にデータ管理できます。

用途

●強誘電体薄膜の結晶アニール
●イオン注人後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
●Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
●ガラス基板の均熱アニール
●熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
●昇温脱離試験、触媒効果試験

特徴

●50℃/sの急速加熱。
●真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
●精密な温度コントロール
●卓上型でのコンパクトな設計

加熱機器

型　式	MILA5000-P-N （高温型)	MILA5000-P-F （均熱型)	MILA5000UHV （高真空型）
温度範囲	RT～1200℃	RT～800℃	RT～1200℃
最高昇温速度	50℃/s（50～1200℃）真空中 45℃/s（50～1200℃）窒素中	4℃/s（50～800℃）真空中 4℃/s（50～800℃）窒素中	50℃/s（50～1200℃）真空中 45℃/s（50～1200℃）窒素中
温度分布	±2.0℃(⊿T=4℃)at=1200℃真空中 ±4.5℃(⊿T=9℃)at=1200℃窒素中	±1.8℃(⊿T=3.6℃)at=500℃真空中 ±1.2℃(⊿T=2.4℃)at=500℃窒素中	±2.0℃(⊿T=4℃)at=1200℃真空中 ±4.5℃(⊿T=9℃)at=1200℃窒素中
試料寸法	W20mm×D20mm×厚2mm
雰囲気	大気中・高真空中・不活性ガス中		大気中・高真空中・不活性ガス中
真空引口	NW25-KF		ICF-70

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