卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ

小サンプル研究開発に最適
MILA5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特徴である急速加熱・冷却、クリーン過熱が行えます。自在な雰囲気下(真空・ガス雰囲気)で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバーが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。加熱操作をUSBケーブル接続によりパーソナルコンピュータ上で行なえ手軽にデータ管理できます。

用途

●強誘電体薄膜の結晶アニール
●イオン注人後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
●Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
●ガラス基板の均熱アニール
●熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
●昇温脱離試験、触媒効果試験

特徴

●50℃/sの急速加熱。
●真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
●精密な温度コントロール
●卓上型でのコンパクトな設計

加熱機器

MILA5000.jpg

MILA5000

MILA5000UHV.jpg
MILA5000UHV

型 式 MILA5000-P-N
(高温型)
MILA5000-P-F
(均熱型)
MILA5000UHV
(高真空型)
温度範囲 RT~1200℃ RT~800℃ RT~1200℃
最高昇温速度 50℃/s(50~1200℃)真空中
45℃/s(50~1200℃)窒素中
4℃/s(50~800℃)真空中
4℃/s(50~800℃)窒素中
50℃/s(50~1200℃)真空中
45℃/s(50~1200℃)窒素中
温度分布 ±2.0℃(⊿T=4℃)at=1200℃真空中
±4.5℃(⊿T=9℃)at=1200℃窒素中
±1.8℃(⊿T=3.6℃)at=500℃真空中
±1.2℃(⊿T=2.4℃)at=500℃窒素中
±2.0℃(⊿T=4℃)at=1200℃真空中
±4.5℃(⊿T=9℃)at=1200℃窒素中
試料寸法 W20mm×D20mm×厚2mm
雰囲気 大気中・高真空中・不活性ガス中 大気中・高真空中・不活性ガス中
真空引口 NW25-KF ICF-70

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