卓上型ランプ加熱装置 MILA-5000シリーズ
小サンプル研究開発に最適
MILA5000シリーズは赤外線ゴールドイメージ炉の特徴である急速加熱・冷却、クリーン過熱が行えます。自在な雰囲気下(真空・ガス雰囲気)で加熱する事が可能で温度コントローラと雰囲気可変チャンバーが一体化した小型で低価格な赤外線ランプ加熱装置です。加熱操作をUSBケーブル接続によりパーソナルコンピュータ上で行なえ手軽にデータ管理できます。
用途
●強誘電体薄膜の結晶アニール●イオン注人後の拡散アニール、酸化膜生成アニール
●Si、化合物ウェハのシンタリング、アロイング処理
●ガラス基板の均熱アニール
●熱サイクル、熱衝撃、熱疲労試験
●昇温脱離試験、触媒効果試験
特徴
●50℃/sの急速加熱。●真空中、ガス中、ガスフロー中、大気中と任意の雰囲気選択
●精密な温度コントロール
●卓上型でのコンパクトな設計
型 式 | MILA5000-P-N (高温型) |
MILA5000-P-F (均熱型) |
MILA5000UHV (高真空型) |
温度範囲 | RT~1200℃ | RT~800℃ | RT~1200℃ |
最高昇温速度 | 50℃/s(50~1200℃)真空中 45℃/s(50~1200℃)窒素中 |
4℃/s(50~800℃)真空中 4℃/s(50~800℃)窒素中 |
50℃/s(50~1200℃)真空中 45℃/s(50~1200℃)窒素中 |
温度分布 | ±2.0℃(⊿T=4℃)at=1200℃真空中 ±4.5℃(⊿T=9℃)at=1200℃窒素中 |
±1.8℃(⊿T=3.6℃)at=500℃真空中 ±1.2℃(⊿T=2.4℃)at=500℃窒素中 |
±2.0℃(⊿T=4℃)at=1200℃真空中 ±4.5℃(⊿T=9℃)at=1200℃窒素中 |
試料寸法 | W20mm×D20mm×厚2mm | ||
雰囲気 | 大気中・高真空中・不活性ガス中 | 大気中・高真空中・不活性ガス中 | |
真空引口 | NW25-KF | ICF-70 |